総合学術高等研究院(集積回路設計・集積回路プロセス)教授または准教授(5年任期テニュアトラック)
職名 | 教授または准教授(テニュアトラック) |
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所属・担当 | 所属:総合学術高等研究院 担当:大学院理工学府(博士課程前期・博士課程後期)、大学院先進実践学環(修士課程) 兼務:理工学部 |
人数 | 1名 |
採用日 | 2024年4月1日 br>またはこれ以降のできるだけ早い時期 |
任期 | 5年間。ただし、この期間の研究・教育並びに運営業務実績によりテニュア(任期なし)への審査を検討します。定年は65歳。 試用期間あり(6カ月とする) |
待遇 | 本学規則に従います。 年俸制(国立大学法人横浜国立大学年俸制教員(A)給与規則適用) 社会保険等:文部科学省共済組合、雇用保険、労災保険 専門業務型裁量労働制適用。 ※専門業務型裁量労働制適用により、1週間あたり38時間45分働いたものとみなされます。 |
分野・専門領域 | 集積回路設計、集積回路プロセス |
職務・研究内容 | 【研究分野】先端集積回路設計、集積回路プロセスなどに関する研究を関連分野の本学教員と連携・協力して行う。 【教育分野】集積回路設計や集積回路プロセス分野の大学院・学部教育を行う。 【運営業務】半導体関連の海外研究機関や大学との連携、ならびにダブルディグリー制度の運営を担当 |
選考方法 | 書類審査による第一次選考の後、プレゼンテーションと面接により第二次選考を行います。適任者がいない場合、最終候補者を選考しない場合があります(面接にかかる交通費、宿泊費等は応募者の負担とします)。 選考結果はメールでご連絡する予定です。 なお、第二次選考は1月4日(木)~1月19日(金)を予定しています。 |
応募資格・要件 | ・博士の学位を有すること、または着任時までに取得見込みであること ・当該分野でトップレベルの業績を有し、世界的に活躍のできる者 ・教育研究に情熱を持っている者 ・英語による教育研究ならびに教育を行う事ができること(目安:TOEICスコア950点 程度)。 |
提出書類 | 以下の文書を印刷した各1部(用紙は全てA4とする)と、一つのpdfファイルとして記録したCDまたはDVDなどの記録メディアを書留または簡易書留にて郵送してください。 (1) 履歴書(写真貼付、学歴、職歴、研究歴、教育歴、所属学会、賞罰) ※過去に学生に対するセクシュアルハラスメントを含む性暴力等を原因として懲戒処分等を受けた場合には、賞罰欄に処分の内容及びその具体的な事由を必ず記入すること。 (2) 博士の学位(写し:学位を有する者) (3) 研究業績リスト(査読付き論文、国際会議論文、著書、講演論文、招待講演等区別してください。Impact Factorがついている論文誌は値を記載し、論文の被引用件数も記載してください。h-indexと総引用数も記載してください) (4) 査読付き学術雑誌論文と国際会議論文の別刷りまたはコピー(主要論文5編程度) (5) 各種競争的研究資金、産学官共同研究、国際的研究活動、発明、特許等、研究活動を示す実績(代表と分担を区別してください) (6) これまでの研究経過の概要(図面含みA4用紙1~2枚程度) (7) 着任後の研究の展望(図面含みA4用紙1~2枚程度) (8) 大学における教育研究についての意見と抱負(図面含みA4用紙1枚程度) (9) 参考意見を伺うことの出来る方2名の氏名、所属、本人との関係、連絡先(電話番号、E-mail アドレス) ※応募書類の記載内容については事実に相違なく、虚偽の記載があった場合には、採用取消や懲戒処分等の対象となる場合があります。 |
応募締切 | 2023年12月15日 (必着)(アップロード完了) |
送付先 | 〒240-8501 横浜市保土ケ谷区常盤台79-5 横浜国立大学 先端科学高等研究院 吉川信行 |
応募方法 | 応募書類の封筒に「総合学術高等研究院教員B応募書類」と朱書し、書留または簡易書留にて郵送のこと。((注)ただし郵送が困難な場合、国立情報学研究所が提供する大容量ファイル転送サービス(NII File Sender)を利用して、電子データで応募書類を提出することができます。NII File Senderによる提出を希望する方は、応募締切の一週間前までに下記の問合せ先メールアドレスに「NII File Senderによる応募書類提出希望」というメールタイトルで連絡してください。折り返しNII File Senderによる提出方法を連絡します。) |
募集の背景 | 横浜国立大学は、異種デバイスを統合する先進的なヘテロ集積技術の開発し、その分野で国内外のリーダーシップを担う世界レベルの研究拠点の確立を目指します(高等研究院内に新たにセンターを設置する予定です)。 本拠点形成にあたり、先端的集積回路設計や半導体プロセス分野を専門とする教員の公募を行います。 |
雇用者(募集者) | 国立大学法人横浜国立大学長 |
問合せ先 | 横浜国立大学 先端科学高等研究院 吉川信行 メールアドレス:yoshikawa-nobuyuki-gt ![]() |
・提出書類については、選考に係る審査にのみ利用し、本学の規則に基づき適切に管理します。
・提出書類は返却いたしません。
・本学はダイバーシティ推進宣言のもと、様々な相違を個性として尊重しています。人材の多様性を目指す視点から、女性および海外での教育・研究経験者などの積極的な応募を歓迎します。
・受動喫煙対策あり:敷地内禁煙(常盤台キャンパスは屋外に特定屋外喫煙場所設置)
その他の採用情報は、以下のページに掲載しています。